国内首台自主知识产权光刻机合肥问世

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http://www.gkong.com 2007-12-27 09:03 来源：人民网

国内首台具有世界领先水平、拥有完全自主知识产权的直写式光刻机昨日在合肥面世，标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。

科研人员展示一张刻有电子芯片电路图的成品晶元

科研人员通过投影仪介绍国内首台自主知识产权光刻机

科研人员操作国内首台自主知识产权光刻机

　光刻机是生产电子芯片的最关键设备之一，电子芯片内的电路图案都是由光刻机产生的。中国是全球集成电路的最大消耗国，据统计所用集成电路占全球的24%以上，但是国产集成电路国内市场自给率却少于10%，因此，光刻机被国家“十一五”发展规划明确定义为重点制造装备。据了解，合肥生产的直写式光刻机分辨率达到亚微米级，与目前国际上同类产品相比，已经达到了世界领先水平,可应用于半导体行业、生物、医药、光电、太阳能电池、新能源及薄膜电路等不同领域。开发该产品的芯硕半导体(中国)有限公司将进行大规模生产，一期工程将于明年9月份正式完工。

国内首台自主知识产权光刻机合肥问世

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